Augstas kvalitātes silīcija nitrīda slāņu uznešanas tehnoloģijas izstrādes izpēte

Mērķis

Izpētīt rūpnieciski pielietojamu tehnoloģiju augstas kvalitātes silīcija nitrīda (Si₃​N₄) plāno kārtiņu uznešanai. Šī tehnoloģija kalpos kā nātrija difūzijas barjerslānis uz stikla substrātiem, kas ļaus ražot dzidrus, bezdefektu un noturīgus neatstarojošos (AR) pārklājumus, kuri saglabā savas optiskās īpašības arī pēc termiskās rūdīšanas procesa.